[论文解读] Higher-order corrections to exclusive production of charmonia at B factories
本文使用非相对论量子色动力学(NRQCD)因子化方法,计算了B工厂中单个底夸克偶素产生过程的高阶量子色动力学(QCD)和相对论性修正,具体为 $e^{+}e^{-} \to \eta_c + \gamma$ 和 $e^{+}e^{-} \to J/\psi + J/\psi$。该研究将相对论性修正对所有阶 $v$(底夸克相对速度的一半)进行了重求和,并包含了下一阶(NLO)QCD修正,所得预测与 $J/\psi + \eta_c$ 的现有数据一致,并可在未来的超B工厂实验中进行检验。
As a test of the color-singlet mechanism of the nonrelativistic QCD (NRQCD) factorization approach, we consider the exclusive two-quarkonium productions in electron-positron annihilation e+ e- -> eta_c + gamma and e+ e- -> J/psi + J/psi at B factories. The cross sections are computed to the next-to-leading order in alpha_s and are resummed to all orders in half the relative velocity v of the charm quark in each meson rest frame. The available theoretical prediction of the cross section for e+ e- -> J/psi + eta_c at the same level of theoretical accuracies is consistent with the available experimental data. Those for e+ e- -> eta_c + gamma and e+ e- -> J/psi + J/psi that are computed new in this work can be tested against the data from future super B factories.
研究动机与目标
- 通过计算B工厂中 $e^{+}e^{-}$ 碰撞下双夸克偶素产生过程的高阶修正,检验NRQCD的色单重机制。
- 改进 $e^{+}e^{-} \to \eta_c + \gamma$ 和 $e^{+}e^{-} \to J/\psi + J\psi$ 的理论预测,这些过程目前尚未被观测,但未来在超B工厂中可被探测。
- 将所有阶 $v$ 的重求和相对论性修正与NLO QCD修正相结合,以获得更精确的截面预测。
- 为检验NRQCD长距离矩阵元(LDMEs)在单个夸克偶素产生过程中的普遍性提供一个理论框架。
提出的方法
- 采用NRQCD因子化方法,将截面表达为短距离系数与长距离矩阵元(LDMEs)的乘积。
- 利用真空饱和近似,对所有阶 $v$(底夸克相对速度的一半)的相对论性修正进行重求和。
- 计算 $e^{+}e^{-} \to \eta_c + \gamma$ 和 $e^{+}e^{-} \to J/\psi + J/\psi$ 过程在 $\alpha_s$ 下一阶(NLO)的QCD修正。
- 应用矢量介子主导(VMD)方法处理光子碎片化图,自动包含相对论性修正和QCD修正。
- 将重求和的相对论性修正与NLO QCD修正相结合,考虑干涉项以避免出现负截面。
- 以电磁衰变($J/\psi \to \ell^+\ell^-$,$\eta_c \to \gamma\gamma$)确定的LDMEs作为输入,假设在 $v^4$ 阶下真空饱和近似成立。
实验结果
研究问题
- RQ1相对论性和QCD修正如何影响B工厂中 $e^{+}e^{-} \to \eta_c + \gamma$ 产生过程的截面?
- RQ2对所有阶 $v$ 重求和相对论性修正对 $e^{+}e^{-} \to J/\psi + J/\psi$ 截面预测有何影响?
- RQ3NLO QCD修正与重求和相对论性修正的联合效应能否为 $J/\psi + J/\psi$ 产生提供正且可靠的预测?
- RQ4$e^{+}e^{-} \to \eta_c + \gamma$ 和 $e^{+}e^{-} \to J/\psi + J/\psi$ 的预测与现有数据及实验上限相比如何?
- RQ5相对论性修正与QCD修正之间的干涉项在多大程度上稳定了截面预测,特别是在 $J/\psi + J/\psi$ 通道中?
主要发现
- 在 $\alpha_s$ 的NLO和重求和相对论性修正下,$e^{+}e^{-} \to J/\psi + \eta_c$ 的理论预测与Belle和BABAR实验数据在不确定度范围内一致。
- 在 $\mu = 2m_c$ 条件下,考虑重求和相对论性修正和NLO QCD修正后,$e^{+}e^{-} \to \eta_c + \gamma$ 的截面预测为 $55.1$ fb。
- 对于 $e^{+}e^{-} \to J/\psi + J/\psi$,总截面预测为 $1.69 \pm 0.35$ fb,远低于Belle的上限 $9.1$ fb。
- 相对论性修正的重求和使截面相比领先阶估计减少了58%,表明存在显著的非微扰效应。
- $J/\psi + J/\psi$ 的NLO QCD $K$-因子较小(约 $0.057$ 至 $0.077$),且对 $m_c$ 和 $\mu$ 敏感,表明对输入参数高度依赖。
- 相对论性修正与QCD修正之间的干涉项为正,可能有助于稳定截面,防止出现负值,尤其在 $J/\psi + J/\psi$ 通道中至关重要。
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本解读由 AI 生成,并经人工编辑审核。