[论文解读] Memristor Behaviour in Nano-Sized Vertical Lsmo/Lsmo Tunnel Junctions
本研究展示了在纳米尺度垂直取向的La0.75Sr0.25MnO3(LSMO)/LSMO隧道结中,通过电场控制的Jahn-Teller效应诱导出忆阻器行为,该效应触发轨道重构并形成一种亚稳态、低电阻的相。关键结果是在约1 MV/cm的电场下实现高电阻态(HRS)与低电阻态(LRS)之间的双极性滞回开关,且在更高电场下由于Jahn-Teller系统弹性能的第二个极小值,观察到额外的再入式LRS-HRS转变。
We report a memory resistance (memristor) behavior with nonlinear current-voltage characteristics and bipolar hysteretic resistance switching in the nanocolumnar manganite (LSMO) films. The switching from a high (HRS) to a low (LRS) resistance occurs at a bias field ~1 MV/cm. Applied electric field drops mostly at the insulating interfacial LSMO layer and couples to correlated polarons at the LSMO(111)/LSMO(111) vertical interfaces. The observed memristance behaviour has an electronic (polaronic) origin and is caused by an electric-field-controlled Jahn-Teller (JT) effect, followed by the orbital reconstruction and formation of a metastable orbitally disordered interfacial phase (LRS). Compared to the earlier reported ionic memristor in Ti-O films, an electronic (polaronic) nano-sized LSMO memristor shows an additional (re-entrant) LRS-HRS switching at higher fields because of the second minimum in the elastic energy of a JT system.
研究动机与目标
- 研究纳米尺度垂直LSMO/LSMO隧道结中的忆阻器行为。
- 确定锰氧化物异质结构中电阻开关行为的起源。
- 探讨关联极化子与Jahn-Teller畸变在电子电阻开关中的作用。
- 识别在高场下观察到的再入式电阻开关行为背后的机制。
提出的方法
- 制备具有垂直LSMO(111)/LSMO(111)异质结构的纳米柱状锰氧化物(LSMO)薄膜。
- 施加电场以诱导电阻开关并测量电流-电压(I-V)特性。
- 利用非线性I-V曲线和滞回响应分析开关行为。
- 通过电子显微镜和晶体学分析(例如,G. Van Tendeloo)研究界面电子结构。
- 对Jahn-Teller效应和弹性能势垒进行建模,以解释系统能量分布中的双极小值。
实验结果
研究问题
- RQ1纳米尺度LSMO/LSMO隧道结中的电阻开关由什么引起?
- RQ2电场如何影响亚稳态低电阻态的形成?
- RQ3Jahn-Teller效应和轨道重构在开关机制中起什么作用?
- RQ4为何在更高电场下会出现第二个再入式电阻开关?
- RQ5电子(极化子)机制与Ti-O体系中基于离子迁移的忆阻器行为有何不同?
主要发现
- 在约1 MV/cm的外加电场下发生电阻开关,电阻从高阻态(HRS)转变为低阻态(LRS)。
- 开关行为具有滞回特性,并表现出非线性的电流-电压特性,证实了忆阻行为。
- LRS态源于电场诱导的Jahn-Teller畸变、轨道重构以及亚稳态、轨道无序的界面相的形成。
- 在更高电场下观察到第二个电阻开关转变(再入式LRS到HRS),这是由于Jahn-Teller系统的弹性能出现第二个极小值所致。
- 忆阻器效应源于电子(极化子)机制,与TiO2基忆阻器中的离子迁移机制截然不同。
- 界面LSMO层承载了大部分电场,驱动极化子和结构相变。
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