Kyoto University · 의학
Hiroki Tanaka 교수의 연구실은 극자외선(EUV) 광원 기술 개발을 핵심으로 하며, 특히 CO₂ 레이저 및 Nd:YAG 레이저를 이용한 플라즈마를 활용한 13.5 nm 파장의 EUV 복사원리를 연구하고 있습니다. 고출력 레이저와 희토류 금속 타겟을 이용한 플라즈마에서의 에너지 변환 효율 향상과 스펙트럼 효율 안정성을 분석하며, 향후 반도체 공정에 활용 가능한 고성능 EUV 라이트 소스의 실현 가능성을 탐색하고 있습니다. 또한 생물막 반응기에서의 질소 제거 반응 메커니즘에 대한 기초 연구를 병행하여 환경 공학 분야의 응용 가능성도 모색하고 있습니다.
표시된 성과는 수집된 데이터 기준으로 산출되며, 일부 차이가 있을 수 있습니다.
The direct comparison of the emission characteristics of an extreme ultraviolet (EUV) light between the CO2 and the Nd:YAG laser-produced plasmas (LPP) with a solid tin target is reported. In the case of the Nd:YAG LPP, the conversion efficiency (C.E.) peaked at a laser intensity of about 5×1010W∕cm2 and decreased at higher laser intensity. In the case of the CO2 LPP, the C.E. monotonically increased up to 2×1010W∕cm2, where the C.E. is comparable to the maximum C.E. of the Nd:YAG LPP. The spect
The reaction rates (r(NH(4) (+) ) and r(NO(2) (-) )) in the two-step nitrification reaction were measured in a fluidized-sand-bed biofilm reactor under a range of steady-state conditions with respect to bulk NH(4) (+), NO(2) (-), and O(2) concentrations. It was shown from theory and experiment that under low NH(4) (+) concentration conditions, if the O(2)/NH(4) (+) concentration ratio in the bulk liquid is less than the stoichiometric coefficient (3.4 mg/mg), then oxygen will be rate limiting. I
We propose a CO 2 laser-produced plasma as the extreme ultraviolet (EUV) light source for a future optical lithography system. The EUV radiation around 13.5 nm was generated by focusing the laser beam from a transversely-excited atmospheric CO 2 laser (4 J, 50 ns full width at half-maximum (FWHM)) on a Xe gas target and a Xe cryogenic target. The EUV energy was measured by a Flying Circus II detecting system, and an output energy of more than 3 mJ/pulse and an conversion efficiency of more than
