Hokkaido University · 공학
히사요시 마츠시마 교수의 연구실은 전기화학적 표면 재구성, 전이금속의 전기진응착, 그리고 자기장이 전착 및 반응 메커니즘에 미치는 영향을 중심으로 한 고해상도 표면 분석을 수행합니다. 특히, in situ STM 및 AFM를 활용한 나노스케일 표면 구조의 동적 변화를 정밀하게 관찰하며, 전기화학적 반응과 자기장 유도 대류(MHD)의 상호작용을 연구하고 있습니다. 이는 연료전지, 전이금속 나노코팅, 이온 액체에서의 금속 전착 등 에너지 및 재료 과학 분야의 핵심 문제 해결에 기여하고 있습니다.
표시된 성과는 수집된 데이터 기준으로 산출되며, 일부 차이가 있을 수 있습니다.
Electrochemical hydrogen evolution on (100)-oriented copper electrodes is shown to induce a novel surface reconstruction, which substantially influences the rates of this electrochemical reaction. As revealed by in situ video-STM the formation of this phase starts with lateral displacements of Cu surface atoms from lattice positions, resulting in stripe-like structures, followed by expansion of the surface lattice along the stripe direction.
The surface structure of Cu(100) electrodes in perchloric acid solutions of pH 1 to 3 was studied in the potential range of hydrogen evolution by video-rate scanning tunneling microscopy, focusing on the recently reported hydrogen-induced surface reconstruction [H. Matsushima et al., J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 10362]. Potential-dependent measurements reveal a two step formation process: at potentials close to the onset of hydrogen evolution a p(1×8) phase emerges, where Cu surface atoms in str
