정상섭 교수
Jss6456
KAIST 반도체시스템공학과 · 공학
연구실 소개
정상섭 교수의 연구실은 전자기기 및 반도체 제조 공정에서 핵심적인 역할을 하는 고성능 선형 구동장치와 마이크로소자 공정 기술을 중심으로 연구를 진행하고 있습니다. 특히 permanent magnet 기반 선형 운동장치의 측방력 최소화를 위한 최적 설계 기법과, 고비율 비구조적 고체막의 에칭 공정에서의 선택적 반응 제어 기술에 중점을 두고 있으며, 나노스케일에서의 물성 분석 및 메모리 소자 구조 최적화도 함께 연구하고 있습니다. 이는 고효율, 고신뢰성 반도체 소자 및 차세대 메모리 기술 개발에 기여하고자 하는 목적이 있습니다.
연구 현황
연구 성과 추이
표시된 성과는 수집된 데이터 기준으로 산출되며, 일부 차이가 있을 수 있습니다.
주요 논문
10Permanent magnet (PM)-type linear oscillating actuators (LOAs) are used in various types of equipment owing to their high efficiency, thrust density, and good control performance. However, the disadvantage of the LOA is the side force inevitably generated by the magnetic coupling structure of the stator and the PM mover. Therefore, side force reduction is essential at the design stage. This study manages the optimal side force design of a movable PM-type linear actuator using response surface me
A new periodic two-step process composing SiO2 etching with high bias radio frequency (rf) power and fluorocarbon deposition with low bias rf power was studied for the highly selective etching of SiO2 to photoresist (PR). In this experiment, the time scale of each step is longer than the conventional time-modulation technique in order to maximize the protection layer on PR and prevent the etch stop. Many works have focused on the gaseous chemical species especially CF2 radicals for selective sur
Abrupt changes in sidewall profile were induced in pulsed plasma etch process for high aspect ratio isolation trench structuring. Impacts of operational parameters when applying pulsed RF bias power were investigated. Silicon sidewall chipping problems were removed mainly by increasing bias power level and pulse frequency. The chemical sensitivity of O2 has shown decreased in extremely narrow trench spaces of high pattern density
Magnetic Random Access Memory (MRAM) has emerged as the leading candidate for future universal memory due to its non-volatility, excellent endurance and read/write performance. The magnetic tunnel junction (MTJ) is a data storage element in MRAM and is basically composed of two ferromagnetic layers separated by the magnesium oxide (MgO) tunnel barrier. MgO between two ferromagnetic layers was adopted to enlarge the resistance difference between two kinds of magnetic arrangements by tunneling cur
Abstract not Available.
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대표 연구 분야
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